rendement de pulvérisation
Étymologie
[modifier le wikicode]- Locution composée de rendement, de et pulvérisation.
Locution nominale
[modifier le wikicode]| Singulier | Pluriel |
|---|---|
| rendement de pulvérisation | rendements de pulvérisation |
| \ʁɑ̃d.mɑ̃ də pyl.ve.ʁi.za.sjɔ̃\ | |
rendement de pulvérisation \ʁɑ̃d.mɑ̃ də pyl.ve.ʁi.za.sjɔ̃\ masculin
- (Physique, Technologie) Nombre moyen d’atomes pulvérisés (éjectés) par ion ou atome incident.
Le rendement de pulvérisation S est défini comme le rapport du nombre d’atomes pulvérisés de la cible à celui du nombre d'ions incidents. Il est fonction de : l’énergie des ions incidents (celle-ci est proportionnelle à la tension appliquée à la cible), la nature (chimique et cristallographique) de la cible, l’angle d’incidence des ions par rapport à la cible, la nature du gaz, l’état physico-chimique de la surface de la cible (contamination).
— (Frédéric Perry, Diagnostic d’un plasma de pulverisation cathodique magnétron: contribution à l’étude des possibilités de contrôle d’un procédé de depôt d’alumine en conditions réactives : thèse de doctorat, sous la dir. de Gérard Henrion, Philippe Pigeat, partie 1.1.2: Pulvérisation cathodique magnétron – Rendement de pulvérisation, Université Henri-Poincaré – UHP / Nancy-I, Nancy, 1996, page 10)Dans le régime de collision simple, l’énergie de l’ion incident est faible. Les atomes éjectés sont ceux ayant directement subi une collision avec l’ion incident. Ce dernier peut également transférer de l’énergie à un atome de la cible pour le déplacer, mais ce recul n’est pas suffisant pour entrainer d’autres mouvements. Le rendement de pulvérisation reste alors limité. Dans le régime de cascade linéaire ou dans celui de « pointe thermique », les atomes de recul sont suffisamment énergétiques pour engendrer l’éjection d'autres atomes, ce qui augmente fortement le rendement de pulvérisation.
— (Amira Farhaoui, Les oxynitrures de silicium déposés par pulvérisation en gaz réactif pulsé pour des dispositifs antireflets à gradient d’indice de réfraction : thèse de doctorat, sous la dir. de Emmanuel Centeno, Rafik Smaali, partie 2.2.2: Le choix du procédé d’élaboration : la pulvérisation cathodique – Interactions ion-surface, Université Blaise-Pascal – UBP / Clermont-Ferrand 2, Clermont-Ferrand, juin 2016, page 23)
Vocabulaire apparenté par le sens
[modifier le wikicode]- atome
- bombardement
- cible
- couche mince
- dépôt physique en phase vapeur
- dépôt sous vide
- ion
- magnétron
- pulvérisation
Hyperonymes
[modifier le wikicode]Traductions
[modifier le wikicode]- Allemand : Sputterausbeute (de) féminin
- Anglais : sputtering yield (en), sputter yield (en)
- Espagnol : rendimiento de pulverización (es) masculin
- Italien : resa di sputtering (it) féminin
- Polonais : wydajność rozpylania (pl) masculin
- Portugais : rendimento de pulverização (pt) masculin
- Russe : коэффициент распыления (ru) masculin inanimé
- Tchèque : výtěžnost naprašování (cs) féminin
- Ukrainien : коефіцієнт розпилення (uk) masculin inanimé
Voir aussi
[modifier le wikicode]- pulvérisation cathodique sur l’encyclopédie Wikipédia
