Sputterausbeute

Allemand

Nom composé de sputtern (« pulvériser ») et de Ausbeute (« rendement »), littéralement « rendement de pulvérisation ».

Sputterausbeute \ˈspʌtəʁaʊ̯sˌbɔɪ̯tə\ ou \ˈspʊtəʁaʊ̯sˌbɔɪ̯tə\ ou \ˈʃpʌtəʁaʊ̯sˌbɔɪ̯tə\ ou \ˈʃpʊtəʁaʊ̯sˌbɔɪ̯tə\ féminin

(Physique, Technologie) Rendement de pulvérisation : nombre moyen d’atomes pulvérisés (éjectés) par ion ou atome incident.
- Unter der Sputterausbeute $Y$ (“Sputtering yield”) versteht man die mittlere Anzahl der Targetatome, die pro auftreffendem Ion emittiert werden. $Y$ hängt vom Targetmaterial, von der Art und Energie der bombardierenden Ionen und deren Einfallswinkel ab. — (Christoph Eisenmenger-Sittner, Technologie Dünner Schichten : Kurs, partie 2.1.2.2. Beschichtungsverfahren – Kathodenzerstäubung (Sputtern) – Grundlagen des Sputterprozesses, Université technique de Vienne – TU Wien, Vienne, 2017, page 22)
  Le rendement de pulvérisation $Y$ (en anglais “sputtering yield”) désigne le nombre moyen d’atomes de la cible émis par ion incident. $Y$ dépend du matériau de la cible, de la nature et de l’énergie des ions la bombardant et de leur angle d’incidence.
- Die Sputterausbeute (Yield) ist der Quotient aus der Anzahl der vom Target emittierten Atome und der das Target erreichenden Atome. Die vom Target emittierten Atome kondensieren auf dem Substrat und bilden eine dünne Schicht. — (Lexikon der Physik - Sputtern sur Spektrum.de, 1998)
  Le rendement de pulvérisation (en anglais “[sputtering] yield”) est le quotient du nombre d’atomes émis de la cible par celui des atomes atteignant ladite cible. Les atomes émis de la cible se condensent sur le substrat et forment une couche mince.