sputtering yield
Étymologie
[modifier le wikicode]- Nom composé de sputtering (« pulvérisation ») et de yield (« rendement »), littéralement « rendement de pulvérisation ».
Locution nominale
[modifier le wikicode]| Singulier | Pluriel |
|---|---|
| sputtering yield \ˈspʌtəɹɪŋ jiːld\ |
sputtering yields \ˈspʌtəɹɪŋ jiːldz\ |
sputtering yield \ˈspʌtəɹɪŋ jiːld\
- (Physique, Technologie) Rendement de pulvérisation : nombre moyen d’atomes pulvérisés (éjectés) par ion ou atome incident.
Total sputtering yield and spatial distributions of sputtered atoms are important for numerous deposition techniques. We performed SRIM (Stopping and Range of Ions in Matter) simulations to analyze the total sputtering yield and angular distribution of sputtered atoms for a range of single-element target materials.
— (Nastja Mahne, Miha Čekada, Matjaž Panjan, « Total and Differential Sputtering Yields Explored by SRIM Simulations », dans Coatings (ISSN 2079-6412), 13 octobre 2022 [texte intégral])- Le rendement total de pulvérisation et les distributions spatiales des atomes pulvérisés sont importants pour de nombreuses techniques de dépôt. Nous avons effectué des simulations SRIM (Stopping and Range of Ions in Matter – arrêt et distance de parcours des ions dans la matière) pour analyser le rendement total de pulvérisation et la distribution angulaire des atomes pulvérisés, pour une gamme de matériaux de cible à un seul élément.
Variantes
[modifier le wikicode]Vocabulaire apparenté par le sens
[modifier le wikicode]- atom (« atome »)
- bombardment (« bombardement »)
- ion (« ion »)
- magnetron (« magnétron »)
- physical vapour deposition, physical vapor deposition (« dépôt physique en phase vapeur »)
- sputtering (« pulvérisation »)
- target (« cible »)
- thin film (« couche mince »)
- vacuum deposition (« dépôt sous vide »)
Hyperonymes
[modifier le wikicode]- yield (« rendement »)
- indicator (« indicateur »)
Voir aussi
[modifier le wikicode]- sputtering sur l’encyclopédie Wikipédia (en anglais)
