dépôt chimique en phase vapeur
Étymologie
[modifier le wikicode]- Locution composée de dépôt, chimique, en et phase vapeur.
Locution nominale
[modifier le wikicode]| Singulier | Pluriel |
|---|---|
| dépôt chimique en phase vapeur | dépôts chimiques en phase vapeur |
| \de.po ʃi.mik ɑ̃ faz va.pœʁ\ | |
dépôt chimique en phase vapeur \de.po ʃi.mik ɑ̃ faz va.pœʁ\ masculin
- (Chimie, Technique, Industrie) Dépôt en phase vapeur par des processus chimiques.
Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l’anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux.
— (dépôt chimique en phase vapeur)Les techniques de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) permettent de déposer des revêtements de diborure de zirconium ZrB2 ou de diborure de titane TiB2 à l'aide de précurseurs halogénés tels que le tétrachlorure de zirconium ZrCl4, le tétrachlorure de titane TiCl4 et le trichlorure de bore BCl3 en phase gazeuse dans l’hydrogène H2 comme réducteur.
— (céramique ultraréfractaire)Les fibres obtenues par dépôt chimique en phase vapeur à partir d’un précurseur de carbone tel que le benzène ont des propriétés et des applications différentes et sont en général appelées « nanofibres de carbone ».
— (fibre de carbone)
Synonymes
[modifier le wikicode]Vocabulaire apparenté par le sens
[modifier le wikicode]- couche mince
- dépôt physique en phase vapeur (par des processus physiques)
Hyperonymes
[modifier le wikicode]Hyponymes
[modifier le wikicode]Traductions
[modifier le wikicode]- Allemand : chemische Gasphasenabscheidung (de) féminin
- Anglais : chemical vapor deposition (en), chemical vapour deposition (en), CVD (en)
Voir aussi
[modifier le wikicode]- dépôt chimique en phase vapeur sur l’encyclopédie Wikipédia
Références
[modifier le wikicode]- Le Grand Dictionnaire terminologique, Office québécois de la langue française (dépôt chimique en phase vapeur)
- Bureau de la traduction du gouvernement du Canada, TERMIUM Plus, 1976-, en ligne → consulter cet ouvrage